HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS涂胶烤箱，MES接口hmds涂布机的主要作用是对晶圆做表面处理，以增加光阻在晶圆表面的附着力。当晶圆送到黄光区时，表面可能有含水层，高温烘烤后去除水气，同时经过HMDS制程改变晶圆表面从极性到非极性，将晶圆表面的表面能被调整到与光阻表面相当的程度，从而使光阻可以很好的附着在晶圆表面。

HMDS涂布机，HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理，HMDS涂布的原理，较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻胶的黏附性工艺中，实际上六甲基二硅烷并不是作为粘结剂所产生作用的，而是HMDS改变了SiO2的界面结构，从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。

HMDS镀膜机设备。整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。

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HMDS涂胶系统，HMDS涂胶烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、液晶面板、显示器、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。