HMDS真空烤箱,MES系统HMDS烤箱将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
HMDS涂胶烤箱,MES接口hmds涂布机的主要作用是对晶圆做表面处理,以增加光阻在晶圆表面的附着力。当晶圆送到黄光区时,表面可能有含水层,高温烘烤后去除水气,同时经过HMDS制程改变晶圆表面从极性到非极性,将晶圆表面的表面能被调整到与光阻表面相当的程度,从而使光阻可以很好的附着在晶圆表面。
HMDS涂布机,HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理,HMDS涂布的原理,较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻胶的黏附性工艺中,实际上六甲基二硅烷并不是作为粘结剂所产生作用的,而是HMDS改变了SiO2的界面结构,从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。
HMDS涂胶系统,HMDS涂胶烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、液晶面板、显示器、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。